China acaba de lograr algo asombroso: ha encontrado la forma de abrir el camino hacia los 3 nm sin litografía UVE

China necesita adquirir la capacidad de fabricar chips de vanguardia. Las sanciones de EEUU y Países Bajos impiden a sus fabricantes de semiconductores acceder a los equipos de litografía de ultravioleta extremo (UVE) de ASML, lo que ha provocado que las compañías chinas que se dedican al diseño de máquinas de fotolitografía, como SMEE ( Shanghai Micro Electronics Equipment ) o Shanghai Yuliangsheng Technology , estén dedicando muchos recursos al desarrollo de sus propios equipos de ultravioleta profundo (UVP) .

No obstante, hay otro camino hacia los circuitos integrados más avanzados. Y el Instituto de Microelectrónica de la Academia China de Ciencias (IMECAS) parece haberlo encontrado.…